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電子束蒸發(fā)與磁控濺射鍍膜的性能分析研究

2017/5/20 20:19:46 來源:

3934

設(shè)薄膜單位面積的附著能為γ,則寬度為b,長度為a的薄膜的總附著能E=abγ(1)

用于剝離該薄膜的力F所作的功

Wp=Fa(1-sin(θ))(2)

如果是靜態(tài)剝離并忽略薄膜彎曲時所產(chǎn)生的彈性能,則F所作的功近似等于薄膜的總附著能,即Wp=E,于是F=bγ/(1-sin(θ))(3)

(3)式中F隨著θ角的變化而變化,不能真實反映薄膜的附著性能。當所加剝離力與薄膜垂直,即θ=0°時,則式簡化為

F=bγ(4)

根據(jù)測量所得的F便可計算出附著能γ=F/b。如果要直接計算單位長度的附著力f,根據(jù)定義并采用上述方法(θ=0°)進行剝離可得f=γ。可見,附著力的大小和附著能γ的數(shù)據(jù)相同,由于Al膜的附著能γ較高,所以其附著力非常大。實驗測得的數(shù)據(jù)是:濺射Al膜的平均附著力25N,電子束蒸發(fā)Al膜的平均附著力為9.8N。這些數(shù)據(jù)和理論分析結(jié)論一致。

2.3致密性

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