大平面濺射陰極 特點： 1、 采用獨特的磁路設計，突破傳統(tǒng)模式，更符合磁控濺射的理念。 2、 采用獨特的結構設計，可以內置、外置，更符合使用要求。 3、磁鐵不被冷卻水包圍，減少腐蝕，且保證磁力線的有效曲線分布。 4、獨特的布氣方式，更加保膜層濺射的均勻性，其等離子狀態(tài)更加平衡。 5、 更高的濺射率，離子密度更強。 6、 更高的利用率，高達40%以上。 7、 尺寸范圍：可在300-3000mm區(qū)間，保持一致的均勻性 8、使用范圍：如TI、AL、NI、CR、AZO、ITO等 應用領域： 半導體、MEMS、TFT、ITO、low-e玻璃、硬質涂層、裝飾性膜層