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玻璃是一種古老的建筑材料,早在古埃及時(shí)期就已出現(xiàn)。伴隨著人類社會共同發(fā)展,玻璃行業(yè)創(chuàng)造出了各種功能獨(dú)特的玻璃,使玻璃家族不斷興旺。我們將介紹藝術(shù)玻璃的主要工藝有哪幾類,并說明藝術(shù)玻璃是如何制作的。
藝術(shù)玻璃是以彩色藝術(shù)玻璃為載體,具體地說藝術(shù)玻璃是人們現(xiàn)實(shí)生活中對精力世界的一種形象反映,同時(shí)也是藝術(shù)家們知覺、情感、理想、意念等綜合心理活動的農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系產(chǎn)物.加上一些工藝美術(shù)手法使現(xiàn)實(shí)、情感和理想得到再現(xiàn),再結(jié)合想象力實(shí)現(xiàn)審美主體和審美客體的相互對象化的一種物品.廣義的藝術(shù)玻璃覆蓋了所有以玻璃材質(zhì)為載體,體現(xiàn)設(shè)計(jì)概念和表達(dá)藝術(shù)效果的玻璃制品,包括藝術(shù)作品、工藝品和裝飾品等等,而狹義的藝術(shù)玻璃則僅僅指的是藝術(shù)作品.
通常而言藝術(shù)玻璃是先進(jìn)行藝術(shù)加工后再做鋼化的,目的是為了避免因施加外力導(dǎo)致鋼化玻璃因應(yīng)力不均而炸裂.
1. 藝術(shù)玻璃冷加工類
1.1 鑲嵌玻璃(傳統(tǒng)鑲嵌,英式鑲嵌,金屬焊接鑲嵌);
1.2 化學(xué)蝕刻(圖案蒙砂,絲印圖案蒙砂,圖案凹蒙,冰花);
1.3 工具雕刻(各式砂輪,砂條雕刻,晶鋼刻刀,機(jī)械車花);
1.4 噴砂雕刻(手工刻膠紙掩模,機(jī)刻膠紙掩模,光刻掩模,漆料肌理掩模);
1.5 激光雕刻(電腦控制激光雕刻);
1.6 切割造型(刀切割,水切割);
1.7 粘貼造型(平面粘貼,空間粘貼,彩色玻璃或膠膜的粘貼,彩色珠/砂/條/件的粘貼,多層疊粘,貼金);
1.8 玻璃立塑(立線堆塑,立線漆浮雕造形);
1.9 彩繪(噴槍彩繪,畫筆彩繪,絲印彩圖,聚晶);
1.10 夾層(En膜夾層:花布,花紙,彩色膠膜,金屬絲網(wǎng)等);
2. 藝術(shù)玻璃熱加工類
2.1 吹制Blown(用管子蘸玻璃液珠后吹制:人工鋼模/機(jī)制鋼模吹制,人工自由造形:吹拉滾摔粘切)
2.2 鑄造Cast(把玻璃液壓注或流入模中成形:如鋼模壓鑄玻璃磚,手工澆鑄彩色玻磚,平面澆鑄藝術(shù)玻璃,失蠟精鑄/琉璃工坊);
2.3 壓制Pressing(把玻璃液引出,用軋錕壓花或壓彩色肌理和底紋的玻板:如機(jī)制壓花藝術(shù)玻璃,手工壓花藝術(shù)玻璃,機(jī)制玻璃瑪賽克等);
2.4 燒結(jié)(把玻璃粉等在模中高溫?zé)Y(jié)成形:如泡沫玻璃或微晶玻璃等的模燒工藝品);
2.5 熔凝Fusing(把玻璃全熔凝至玻液,并在其表面張力下凝聚:如熔凝的玻珠,玻璃手飾和玻璃工藝品等);
2.6 彩釉 Enamel(使用高溫彩釉在玻璃表面上色或彩繪:如彩釉色玻,彩釉彩繪);
2.7 疊燒(把疊層玻璃燒粘黏成一體:如疊熔,疊燒,夾絲/件);
玻璃是非晶無機(jī)非金屬材料,一般是用多種無機(jī)礦物(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸鋇、石灰石、長石、純堿等)為主要原料,另外加入少量輔助原料制成的。它的主要成分為二氧化硅和其他氧化物。普通玻璃的化學(xué)組成是Na2SiO3、CaSiO3、SiO2或Na2O·CaO·6SiO2等,主要成分是硅酸鹽復(fù)鹽,是一種無規(guī)則結(jié)構(gòu)的非晶態(tài)固體。廣泛應(yīng)用于建筑物,用來隔風(fēng)透光,屬于混合物。另有混入了某些金屬的氧化物或者鹽類而顯現(xiàn)出顏色的有色玻璃,和通過物理或者化學(xué)的方法制得的鋼化玻璃等。有時(shí)把一些透明的塑料(如聚甲基丙烯酸甲酯)也稱作農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系玻璃。
“粘貼”一詞的正確讀音是“zhān tiē ”(1) [用黏性的東西使紙張等附著在別的東西上(2) ;濕的東西貼在別的物體上。粘貼:網(wǎng)絡(luò)術(shù)語,指將一個(gè)文本或一段文字復(fù)制或剪切后移動到另一個(gè)位置或另一個(gè)文本中。
掩模版(mask)簡稱掩模,是光刻工藝不可缺少的部件。掩模上承載有設(shè)計(jì)圖形,光線透過它,把設(shè)計(jì)圖形透射在光刻膠上。掩模的性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。在投影式光刻機(jī)中,掩模作為一個(gè)光學(xué)元件位于會聚透鏡(condenser lens)與投影透鏡(projection lens)之間,它并不和晶圓有直接接觸。掩模上的圖形縮小4~10倍(現(xiàn)代光刻機(jī)一般都是縮小4倍)后透射在晶圓表面。為了區(qū)別接觸式曝光中使用的掩模,投影式曝光中使用的掩模又被稱為倍縮式掩模(reticle)。
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