玻璃種類豐富，能夠滿足不同場(chǎng)合的不同需求。通過調(diào)整制造玻璃的材質(zhì)與工藝，廠家可以讓玻璃材料的性質(zhì)發(fā)生非常大的變化，從而使其更加穩(wěn)定耐用。為了使經(jīng)過加工的玻璃表面更加光滑平順，我們常常需要使用拋光機(jī)對(duì)其進(jìn)行拋光處理。本文將要介紹什么是拋光機(jī)和拋光材料，幫助大家對(duì)拋光盤進(jìn)行選擇。

一、什么是拋光機(jī)和拋光材料

        拋光機(jī)由底座、拋盤、拋光織物、拋光罩及蓋等基本元件組成.電動(dòng)機(jī)固定在底座上,固定拋光盤用的錐套通過螺釘與電動(dòng)機(jī)軸相連.拋光織物通過套圈緊固在拋光盤上,電動(dòng)機(jī)通過底座上的開關(guān)接通電源起動(dòng)后,便可用手對(duì)試樣施加壓力在轉(zhuǎn)動(dòng)的拋光盤上進(jìn)行拋光.拋光過程中加入的拋光液可通過固定在底座上的塑料盤中的排水管流入置于拋光機(jī)[1]旁的方盤內(nèi).拋光罩及蓋可防止灰土及其他雜物在機(jī)器不使用時(shí)落在拋光織物上而影響使用效果.

        拋光材料是用于被拋的物質(zhì),研磨拋光玻璃、金屬、皮革、半導(dǎo)體、塑料,寶石.玉器.不銹鋼的研磨拋光等.

        如玻璃拋光采用氧化鐵紅、二氧化錫、氧化鋁、氧化鈰、碳酸鋇、白堊、陶土、硅藻土等粉狀混合物,與水等配合成懸浮液后使用.

        金屬和塑料拋光等用固體油膏.

        常用的有四種拋光膏.

        (1)白色拋光膏.由石灰及硬脂酸、脂肪酸、漆脂、牛油、羊油、白蠟等配合而成,用于鎳、銅、鋁和膠木等的拋光.

        (2)顏色拋光膏.由長(zhǎng)石粉及漆脂、脂肪酸、松香、黃丹、石灰、土紅粉等配合而成,用于銅、鐵、鋁和膠木等的拋光.

        (3)綠色拋光膏.由脂肪酸和氧化鉻綠等配合而成,用于不銹鋼和鉻等的拋光.

        (4)紅色拋光膏.由脂肪酸、白蠟、氧化鐵紅等配合而成,用于金屬電鍍前拋光以及拋光金、銀回光等

二、拋光盤應(yīng)如何選擇

        1.拋光盤材質(zhì).

        不同的工件需要采用不同的研磨盤或者拋光盤,這次,我們需要再次強(qiáng)調(diào)這一點(diǎn).用什么材質(zhì)的盤需要根據(jù)工件具體的材質(zhì)定.比如:藍(lán)寶石產(chǎn)品可與用銅盤,金屬用金剛石或者不銹鋼盤等.

        2.拋光盤的粒度要比較細(xì)膩.

        拋光是一種精細(xì)的過程,要求所用盤必須細(xì)膩,不能太過粗糙.只有細(xì)膩的盤才能將工件表面層層拋亮,均勻地做成鏡面效果.粗糙的盤不僅做出來效果不均勻,而且表面容易產(chǎn)生劃傷斑點(diǎn)等問題.

        3.拋光盤必須具備一定的硬度.

        由于工件和盤在高速運(yùn)轉(zhuǎn)的過程中會(huì)產(chǎn)生非常大的摩擦和熱量,如果拋光盤不具備一定的硬度,那么很容易會(huì)產(chǎn)生裂痕,劃痕,塌邊等現(xiàn)象.如果盤出現(xiàn)了這些問題,那工件拋光的質(zhì)量更是沒法保障了.所以,盤的硬度合適是非常重要的.太硬了也不行,因?yàn)樘苍谀Σ吝^程又容易損傷到工件.所以在根據(jù)材質(zhì)進(jìn)行選擇時(shí),我們盡量選擇比工件材質(zhì)稍微硬一點(diǎn)點(diǎn)的盤進(jìn)行拋光,這樣效果更佳.

        4.拋光盤所用材料要有一定的耐熱性.

        為什么要具備耐熱性呢?毫無疑問,摩擦生熱這是大家都知道的物理原理,如果盤不耐熱,那么在研磨一定時(shí)間段后,盤的溫度達(dá)到某個(gè)值就會(huì)自動(dòng)斷裂,或者將工件毀掉.雖然我們?cè)谄矫鎾伖鈾C(jī)上會(huì)有冷卻裝置,但是自身耐熱性能好的材料也更適合做拋光盤.

三、有關(guān)概念

3.1 工件

        工件，即機(jī)械加工中的加工對(duì)象。它可以是單個(gè)零件﹐也可以是固定在一起的幾個(gè)零件的組合體，也叫制件、作件、課件、五金件等。

3.2 拋光機(jī)

        拋光機(jī)是一種電動(dòng)工具，拋光機(jī)由底座、拋盤、拋光織物、拋光罩及蓋等基本元件組成。拋光機(jī)操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到更大的拋光速率，以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì)影響觀察到的籌備，即不會(huì)造成假籌備。前者要求使用較粗的磨料，以保證有非常大的拋光速率來去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深；后者要求使用更細(xì)的材料，使拋光損傷層較淺，但拋光速率低。