氧化銅靶材由于其特性，可以用于多種應(yīng)用，包括但不限于： 1.    集成電路（IC）制造：在IC制造中，氧化銅靶材可以用于形成導(dǎo)電路徑、絕緣層和各種功能性薄膜。 2.    光伏產(chǎn)業(yè)：氧化銅靶材作為太陽(yáng)能電池的核心材料，用于捕獲太陽(yáng)光并轉(zhuǎn)化為電能。 3.    顯示技術(shù)：包括液晶顯示（LCD）和有機(jī)發(fā)光二極管（OLED）技術(shù)，靶材用于制造顯示屏的導(dǎo)電層和發(fā)光層。 4.    存儲(chǔ)技術(shù)：在硬盤驅(qū)動(dòng)器（HDD）和固態(tài)驅(qū)動(dòng)器（SSD）等數(shù)據(jù)存儲(chǔ)設(shè)備中，靶材用于形成磁性薄膜和存儲(chǔ)介質(zhì)。