1.高純氧化物薄膜材料（濺射靶材、顆粒、壓片） 氧化物 OXIDE 一氧化硅SiO 二氧化鉿HfO2 二氧化鋯ZrO2 二氧化鈦TiO2 一氧化鈦TiO 二氧化硅SiO2 三氧化二鈧Sc2O3 三氧化二鈦Ti2O3 三氧化二鋁Al2O3 五氧化二鈮Nb2O5 五氧化二鉭Ta2O5 五氧化三鈦Ti3O5 三氧化二銦In2O3 二氧化鈰CeO2 氧化鎂MgO 氧化鐠Pr6O11 三氧化鎢WO3 氧化釤Sm2O3 氧化釹Nd2O3 氧化鉍Bi2O3 氧化銻Sb2O3 氧化釩V2O5 氧化鎳NiO 氧化鋅ZnO 氧化鐵Fe2O3 氧化鉻Cr2O3 氧化銅CuO   2.高純氟化物薄膜材料（顆粒、壓片） 氟化物 FLUORIDE 氟化鎂MgF2 氟化鐿YbF3 氟化釔YF3 氟化鏑DyF3 氟化釹NdF3 氟化鉺ErF3 氟化鉀KF 氟化鍶SrF2 氟化釤SmF3 氟化鈉NaF 氟化鋇BaF2 氟化鈰CeF3 3.特種薄膜材料（濺射靶材、顆粒）——應(yīng)用太陽(yáng)能、半導(dǎo)體、磁性元件等，熱壓、熱等靜壓粉末冶金濺射靶材 SrAl2O4 SrAlO4 SrHfO3 SrPrO3 SrZrHfO3 L5 ATO-HPorCIP AZO-HPorCIP 鈦酸鑭LaTiO3 鈦酸鋇BaTiO3 鈦酸鍶SrTiO3 鈦酸鐠PrTiO3 冰晶石Na3AlF6 錐冰晶石Na5Al3F14 二鈦酸鐠Pr(TiO3)2 硫化鋅ZnS 硫化鎘CdS-HP 碲化鎘CdTe-HP 銅銦鎵硒CIGS-HP 鍺銻碲GST-HP 硅鉬合金MoSi-HP 二硫化鉬MoS2-HP 二硫化鎢WS2-HP 硅鈦合金SiTi-HP 鎢鈦合金WTi-HP 硅鋁合金SiAl-HP 鉬鉻合金MoCr-HP 鋁鉻合金AlCr-HP 粉末冶金靶材種類繁多，以上列出有代表性材料，可根據(jù)要求定做。 4.高純金屬及合金材料（濺射靶材、顆粒） 鉿靶Hf 鋯靶Zr 鈦靶Ti 鋁靶Al 鉻靶Cr 鎂靶Mg 銅靶Cu 鐵靶Fe 鈮靶Nb 錫靶Sn 鎢靶W 鉭靶Ta 鉬靶Mo 鎳靶Ni 鈷靶Co 釩靶V 鋱靶Tb 釓靶Gd 鑭靶La 鈰靶Ce 釹靶Nd 鐠靶Pr 金靶Au 銀靶Ag 鉑靶Pt 鎳鉻合金NiCr 鎳釩合金NiV 鋯鈦合金ZrTi 鈮鋯合金NbZr 鋅鎘合金ZnCd 金屬單質(zhì)及部分合金靶材：鋁靶Al，銀靶Ag，金靶Au，鈷靶Co，鉻靶　Cr，銅靶Cu，鎳靶Ni，鈦靶Ti，鋅靶Zn，鎂靶Mg，鈮靶Nb，錫靶Sn，銦靶In，鐵靶Fe　鋯靶Zr　鉑靶Pt　鉭靶Ta　鍺靶Ge　硅靶Si　鎢靶　W鉿靶　Hf釓靶Gd　釤靶Sm，鏑靶Dy，鈰靶Ce，釔靶Y，鑭靶La，錸靶Re，釕靶Ru，鈀靶Pd，銠靶Rh，鉍靶Bi，鈦鋁Ti-Al、鋁硅Al-Si、鋁銅Al-Cu、鋁鈦Al-Ti、銀銅Ag-Cu、鋁鎂Al-Mg、鈷鐵硼Co-Fe-B、銅銦鎵Cu-In-Ga、鐵錳Fe-Mn、銦錫In-Sn、鈷鐵Co-Fe、鎳鈷Ni-Co、鎳鐵Ni-Fe、鎳鉻Ni-Cr、鎳鋯Ni-Zr、鎳鋁Ni-Al、鎳銅Ni-Cu、鎳釩Ni-V、鎢鈦W-Ti、鋅鋁Zn-Al、鋁鈦硼Al-Ti-B、鋁鈧Al-Sc、釩鋁　V-Al、鐵V-Al-Fe、銅錫Cu-Sn、鋯鋁Zr-Al、釩鋁V-Al、硼鐵B-Fe等 陶瓷靶材：氮化硅靶Si3N4、氮化鋁靶AIN，氮化硼靶BN，氮化鉻靶材CrN，氮化鋯靶ZrN，氮化鈦靶TiN，碲化鎘靶CdTe，二硅化鉬靶MoSi2二硫化鉬MoS2，二硼化鋯靶ZrB2，二硼化鈦靶TiO2，二氧化鋯靶ZrO2，二氧化硅靶SiO2，二氧化錳MnO2，二氧化鈰靶CeO2，二氧化鈦靶TiO2，二氧化錫靶SnO2，氟化鋇靶BaF2，氟化鈣靶CaF2，氟化鋁靶AlF3，氟化鎂靶MgF2，氟化鈰靶CeF2，硫化鎘靶CdS，硫化亞銅Cu2S，硫化鋅靶ZnS，硼靶B，硼化鉿靶HfB2，三氧化二鉻靶Cr2O3，三氧化二錳Mn2O3，三氧化鎢靶WO3，鈦酸鋇靶BaTiO3，鈦酸鐠靶PrTiO3，石墨靶C，碳化鋯靶ZrC，碳化鉻靶Cr3C2，碳化硅靶SiC，碳化鉿靶HfC，碳化硼靶B4C，碳化鈦靶TiC，碳化鎢靶W2C，五氧化二鈮靶Nb2O5，氧化鉺靶Er2O3，氧化鈷靶CoO，氧化鉿靶HfO2，氧化鎵靶Ca2O3，氧化鈧靶Sc2O3，氧化鋁靶Al2O3，氧化鎂靶MgO，氧化鎳靶NiO，氧化釹靶Nd2O3，氧化鉭靶Ta2O5，氧化鐵靶Fe2O3，氧化銅靶CuO，氧化鋅靶ZnO，氧化釔靶Y2O3，氧化銦靶In2O3，ITO靶（In2O3＋SnO2），AZO靶（ZnO＋AL203），LGZO靶，