可用于分析當(dāng)今low-e玻璃中比較流行的單銀、雙銀、三銀玻璃及熱反射產(chǎn)品膜系結(jié)構(gòu)分析， 如NiCr、Cr、Cu、Ag、單晶Si、C、ZnSn、SiAl、ZnAl、TiOX、NbOX、AZO等材料組成的各種膜系機(jī)構(gòu)，可準(zhǔn)確F分析測(cè)試各膜層的厚度和光學(xué)常數(shù)(N、K)。   產(chǎn)品特點(diǎn)：   易于安裝 基于視窗結(jié)構(gòu)的軟件，很容易操作 先進(jìn)的光學(xué)設(shè)計(jì)，以確保能發(fā)揮出較佳的系統(tǒng)性能 能夠自動(dòng)的以0.01度的分辨率改變?nèi)肷浣嵌? 高功率的DUV－VIS光源，能夠應(yīng)用在很寬的波段內(nèi) 基于陣列設(shè)計(jì)的探測(cè)器系統(tǒng)，以確?？焖贉y(cè)量 較多可測(cè)量12層薄膜的厚度及折射率 能夠用于實(shí)時(shí)或在線的監(jiān)控光譜、厚度及折射率等參數(shù) 系統(tǒng)配備大量的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)及數(shù)據(jù)庫 對(duì)于每個(gè)被測(cè)薄膜樣品，用戶可以利用先進(jìn)的TFProbe3.0軟件功能選擇使用NK數(shù)據(jù)庫、也可以進(jìn)行色散或者復(fù)合模型（EMA）測(cè)量分析 三種不同水平的用戶控制模式：專家模式、系統(tǒng)服務(wù)模式及初級(jí)用戶模式 靈活的專家模式可用于各種獨(dú)特的設(shè)置和光學(xué)模型測(cè)試 健全的一鍵按鈕(Turn－key)對(duì)于快速和日常的測(cè)量提供了很好的解決方案 用戶可根據(jù)自己的喜好及操作習(xí)慣來配置參數(shù)的測(cè)量 系統(tǒng)有著全自動(dòng)的計(jì)算功能及初始化功能 無需外部的光學(xué)器件，系統(tǒng)從樣品測(cè)量信號(hào)中，直接就可以對(duì)樣品進(jìn)行準(zhǔn)確的校準(zhǔn) 可精密的調(diào)節(jié)高度及傾斜度 能夠應(yīng)用于測(cè)量不同厚度、不同類型的基片 各種方案及附件可用于諸如平面成像、測(cè)量波長擴(kuò)展、焦斑測(cè)量等各種特殊的需求 2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數(shù)據(jù)管理界面。   系統(tǒng)配置： 型號(hào)：SE200BA-M300 探測(cè)器：陣列探測(cè)器 光源：高功率的DUV-Vis-NIR復(fù)合光源 指示角度變化：可編程設(shè)定，自動(dòng)可調(diào) 平臺(tái)：ρ-θ配置的自動(dòng)成像 軟件：TFProbe 3.2版本的軟件 計(jì)算機(jī)：Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器 電源：110–240V AC/50-60Hz，6A 保修：一年的整機(jī)及零備件保修   基本參數(shù)： 波長范圍：250nm到1000 nm 波長分辨率: 1nm 光斑尺寸：1mm至5mm可變 入射角范圍：10到90度 入射角變化分辨率：0.01度 樣品尺寸：較大直徑為300mm 基板尺寸：較多可至20毫米厚 測(cè)量厚度范圍*：0nm?10μm 測(cè)量時(shí)間：約1秒/位置點(diǎn) 準(zhǔn)確度*：優(yōu)于0.25％ 重復(fù)性誤差*：小于1 ?   應(yīng)用領(lǐng)域： ? 半導(dǎo)體制造（PR，Oxide, Nitride..) 液晶顯示（ITO，PR，Cell gap... ..） 醫(yī)學(xué)，生物薄膜及材料領(lǐng)域等 油墨，礦物學(xué)，顏料，調(diào)色劑等 醫(yī)藥，中間設(shè)備 光學(xué)涂層，TiO2, SiO2, Ta2O5... .. 半導(dǎo)體化合物 在MEMS/MOEMS系統(tǒng)上的功能性薄膜 非晶體，納米材料和結(jié)晶硅   產(chǎn)品可選項(xiàng)： 用于反射的光度測(cè)量或透射測(cè)量 用于測(cè)量小區(qū)域的微小光斑 X－Y成像平臺(tái)(X-Y模式，取代ρ-θ模式) 加熱/致冷平臺(tái) 樣品垂直安裝角度計(jì) 波長可擴(kuò)展到遠(yuǎn)DUV或IR范圍 掃描單色儀的配置 聯(lián)合MSP的數(shù)字成像功能，可用于對(duì)樣品的圖像進(jìn)行測(cè)量