利用真空狀態(tài)下弧光放電原理的離子鍍膜技術(shù)，是率先發(fā)展起來的真空鍍膜方式，具有沉積速率高、結(jié)合牢固、設(shè)備運行穩(wěn)定等優(yōu)點，我們在傳統(tǒng)多弧的基礎(chǔ)上，對靶結(jié)構(gòu)、磁鐵、冷卻等進行了嚴格的改進和設(shè)計，提高了離化率、細化顆粒，膜層和基材結(jié)合更加牢固、膜層更加致密，硬度耐磨性顯著提高，厚度可以控制在0.5微米—5微米之間，是普通裝飾鍍和工具鍍膜的優(yōu)選機型。 根據(jù)市場的需求公司研制出輔助陽極、磁過濾、矩形平面靶、圓柱旋轉(zhuǎn)電弧靶等衍生產(chǎn)品，沉積的膜層達到納米量級，是制備高硬度、高結(jié)合力、高耐膜性a-tc、DLC膜層的良好選擇。 技術(shù)參數(shù)： 真空箱體：主要規(guī)格有800*1000mm、1000*1200mm、1200*1500mm、1500*1600mm、1800*1950mm，并可以根據(jù)客戶具體要求設(shè)計非標產(chǎn)品。 夾具方式：采用公自轉(zhuǎn)行星式齒輪結(jié)構(gòu)，工件速度在1-15轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào)，掛具有6軸、8軸、10軸、12軸等各種規(guī)格，適合不同大小尺寸的裝飾、工具鍍膜。 控制氣體方式：采用質(zhì)量流量計控制，進氣穩(wěn)定，反應(yīng)速度快，可以配加自動壓強控制。 靶：采用整體制造技術(shù)，結(jié)構(gòu)合理而簡單，維護更換靶材方便，具有自動/手動引弧功能。 電源：配置直流脈沖電源（電壓、占空比可調(diào)節(jié)），逆變電弧電源。 抽真空參數(shù)：從大氣抽至5*10??Pa≤15min 極限真空度8*10?4Pa 控制系統(tǒng) 可以選用手動控制；計算機控制，觸摸屏面板控制。 抽氣系統(tǒng)：采用國產(chǎn)品牌機械泵、羅茨泵、擴散泵，根據(jù)其真空室大小確定合理型號。也可以根據(jù)客戶的需要配備分子泵或者進口泵等。