旋轉(zhuǎn)靶材相對于平面靶材具有很多的優(yōu)點(diǎn)，I)利用率高(70%以上)。甚至可以達(dá)到90%;2)濺射速度快，為平面靶的2-3倍；3)有效地減少打弧和表面掉渣，工藝穩(wěn)定性好坐寸ο對于旋轉(zhuǎn)鍍膜靶材，要求旋轉(zhuǎn)靶`材為單根整體，或分段焊接在同一襯管上。以目前技術(shù)條件，旋轉(zhuǎn)靶材的制備方法主要包括熱等靜壓法、熱壓燒結(jié)法和澆鑄法，以上工藝各有優(yōu)缺點(diǎn)，但是對不同尺寸的靈活控制難以滿足，尤其是熱壓燒結(jié)法只能生產(chǎn)長度為300mm以內(nèi)的單支靶材，因此只能通過多節(jié)分段焊接固定在襯管上以達(dá)到一定的長度要求，這樣增加了生產(chǎn)的步驟,提高了靶材生產(chǎn)的成本。等離子噴涂旋轉(zhuǎn)靶材，是將金屬或非金屬噴涂粉在等離子焰流中加熱到熔化或半熔化狀態(tài)。       熱噴涂技術(shù)將會是一種可能降低SOFC制造成本的關(guān)鍵技術(shù)，熱噴涂可以設(shè)計制備特定孔隙率的高電導(dǎo)率多孔電極。在典型的SOFC結(jié)構(gòu)中，不同的電池功能層往往采用不同的材料，電池內(nèi)有可能包含的材料包括氧化物、合金以及金屬陶瓷。此外，熱噴涂技術(shù)操作簡單，成本低廉。冷噴涂涂層也應(yīng)用廣泛，冷噴涂Ti的涂層具有很高的性能密度比及耐腐蝕能力。噴涂中的氧化和燃燒現(xiàn)象，殘余應(yīng)力低，結(jié)合強(qiáng)度高，提高。兩種鋁涂層的硬度為72HV0.04和58HV0.04，涂層的硬度較高。兩種涂層與基體的結(jié)合強(qiáng)度為15MPa和16MPa。濺射靶材根據(jù)材料可分為金屬材料(純金屬鋁/鈦/銅/鉭等)、合金材料(鎳鉻/鎳鈷合金等)、無機(jī)非金屬(陶瓷化合物：氧化物/硅化物/碳化物等)、復(fù)合材料靶材。       按使用的原材料材質(zhì)不同，濺射靶材可分為金屬/非金屬單質(zhì)靶材、合金靶材、化合物靶材等。濺射鍍膜工藝可重復(fù)性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結(jié)合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應(yīng)用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場應(yīng)用量大的PVD鍍膜材料。       靶坯與背板綁定完成后，需要采用水浸式超聲波掃描儀進(jìn)行粘結(jié)層的檢測驗(yàn)粘結(jié)面積是否達(dá)標(biāo)。機(jī)械加工：靶坯需要進(jìn)行準(zhǔn)確的機(jī)械成型加工，用于與靶坯復(fù)合使用的背板，由于承擔(dān)與鍍膜設(shè)備配合、承受高壓水冷等作用，需要具備非常高的尺寸精度與機(jī)械精度，加工難度較高，尤其是帶內(nèi)循環(huán)水路的背板，由于材質(zhì)的特殊性，水路的密閉焊接非常困難，需要用到特種焊接工藝。金屬化：靶坯與背板在綁定之前，為增強(qiáng)靶材和靶材與焊料的金屬潤濕性能，需要進(jìn)行焊合面的預(yù)處理，使之表面鍍層過渡層。綁定：大部分靶材由于材料的物理或者化學(xué)性能受限，不可直接裝機(jī)鍍膜使用，需要采用金屬焊料將靶坯與背板相互焊合連接，并且表面有效粘結(jié)率需要達(dá)到大于95%的大面積焊合。整個過程需要在高溫和高壓下進(jìn)行。       真空鍍膜設(shè)備目前主要用于塑料薄膜、金屬、燈具、陶瓷、玻璃等制品表面蒸鍍金屬薄膜、七彩膜、仿金膜等，從而獲得光亮、美觀、廉價的塑料，陶瓷等表面金屬化制品。廣泛應(yīng)用于各種塑料玩具、塑料日用裝飾品、人造首飾、圣誕裝飾品、家用電器裝飾、電器儀表、裝飾、燈具的表面金屬化鍍膜。齊全的真空鍍膜設(shè)備要求有真空鍍膜機(jī)、清洗裝置、冷卻裝置以及真空鍍膜檢測裝置，目前檢測裝置可以選擇在真空鍍膜機(jī)上安裝光密度在線檢測儀來連續(xù)監(jiān)控真空鍍膜在線生產(chǎn)的產(chǎn)品鍍膜厚度的品質(zhì)。那么我們應(yīng)該如何選購合適的真空鍍膜機(jī)呢？應(yīng)該從已下幾個方面考慮：，根據(jù)要鍍膜工件的材質(zhì)，需要鍍出來的是什么樣效果來選購真空鍍膜機(jī)的種類。       在真空室的左右兩側(cè)設(shè)置左右大門，而在其中配裝蒸發(fā)裝置和磁控裝置，可在該雙門上預(yù)留該兩裝置的接口，以備需要時換裝。真空鍍膜機(jī)一般都是由真空系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、薄膜卷繞系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等主要部分組成。當(dāng)薄膜運(yùn)行速度達(dá)到一定數(shù)值后，打開擋板使氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、冷卻即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、基材薄膜的移動速度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在250～500。而蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)是專業(yè)在塑料表面進(jìn)行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的專用設(shè)備，鍍出的膜層牢固且細(xì)密，是工業(yè)化生產(chǎn)的理想設(shè)備，其特點(diǎn)是它的環(huán)保性，真空鍍膜設(shè)備屬于無三廢、純凈的清潔生產(chǎn)設(shè)備。磁控濺射靶材是真空磁控濺射鍍膜的核心部件。