靶材，特別是高純度濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理-氣相沉積工藝（PVD）、太陽能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過在PVD設(shè)備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。       薄膜太陽能電池比傳統(tǒng)的晶體硅太陽能電池具有更加廣闊的市場空間。大部分國家光伏累計裝機容量不斷增長,給太陽能電池用濺射靶材市場帶來了較大的成長空間。高純?yōu)R射靶材是典型的技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè),產(chǎn)品技術(shù)含量高,研發(fā)生產(chǎn)設(shè)備專用性強。大部分國家靶材市場主要由日美公司所掌控,市場集中度較高。日礦金屬是大部分國家的靶材供應(yīng)商，靶材銷售額約占大部分國家市場的30%，霍尼韋爾在并購JohnsonMattey、整合高純鋁、鈦等原材料生產(chǎn)廠后，占到大部分國家市約20%的份額，此外，東曹和普萊克斯分別占20%和10%。對靶材用量較大的行業(yè)主要有半導(dǎo)體集成電路、平板顯示器、太陽能電池、磁記錄介質(zhì)、光學(xué)器件等（這些就是按應(yīng)用分類的）。其中，高純度濺射靶材主要用于對材料純度、穩(wěn)定性要求更高的領(lǐng)域。       近年，冷噴涂作為一種新型噴涂工藝被用在金屬表面制備高質(zhì)量的金屬涂層。熱噴涂就是把某種材料經(jīng)加熱加速噴射到工件的表面上形成涂層，以獲得某種需要性能的材料表面改性與強化技術(shù)。早發(fā)展的是熱噴涂技術(shù)。的要求不斷提高，需要在保證噴涂材料高速噴射、致密沉積、良好結(jié)合的同時盡量降低加熱溫度。薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路（VLSI）、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。利用冷噴涂技術(shù)生產(chǎn)金屬合金靶材，可大大提高防護壽命，物膜，能有效阻止腐蝕介質(zhì)向內(nèi)部滲透，并保持較低的腐蝕速率。冷噴涂技術(shù)制備的涂層具有氧化物含量低、涂層熱應(yīng)力小、硬度高、結(jié)合強度好。鋯靶材鋯管靶鋯靶材價格氧化鋯靶材（UVTM）詳細介紹廣州尤特是一家專業(yè)從事高純鋯金屬靶材及氧化鋯陶瓷靶材研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術(shù)企業(yè)。光學(xué)鍍膜、等離子切割、非晶材料及硬質(zhì)合金等領(lǐng)域。       平板顯示靶材技術(shù)要求也很高，它要求材料高純度、面積大、均勻性程度高。鋁、銅、鉬、鉻等，主要應(yīng)用于薄膜太陽能電池，太陽能靶材技術(shù)要求高、應(yīng)用范圍大。信息存儲靶材的原材料有鉻基、鈷基合金等，用于光驅(qū)、光盤、機械硬盤、磁帶等。信息存儲靶材具備高存儲密度、高傳輸速度等特性。濺射靶材種類繁多，就ITO導(dǎo)電玻璃中使用硅靶.鋁靶.鈮靶等三種以上。根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域的不同，靶材的材料、形狀也會有所差異。根據(jù)形狀可分為長(正)方體形、圓柱體形、無規(guī)則形以及實心、空心靶材。柱形磁控測射靶的優(yōu)點是結(jié)構(gòu)緊湊，靶材利用率較平面矩形靶高。指甲蓋大小的芯片上密布著上萬米金屬導(dǎo)線，這些密布的電路必須要對高純度的金屬靶材通過濺射的方式形成。       是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過在PVD設(shè)備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料。稱為濺射靶材。氮化物是在電子和光電子應(yīng)用方面有較大潛力的新型半導(dǎo)體材料,它在室溫下具有高電子遷移率和良好導(dǎo)電性的優(yōu)勢。是目前大部分國家半導(dǎo)體研究的****和熱點，是研制微電子器件、光電子器件的新型半導(dǎo)體材料。它具有寬的直接帶隙、強的原子鍵、高的熱導(dǎo)率、化學(xué)穩(wěn)定性好(幾乎不被任何酸腐蝕)等性質(zhì)和強的抗輻照能力。顯示行業(yè)主要在顯示面板和觸控屏面板兩個產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)節(jié)需要使用靶材濺射鍍膜。用于高清電視、筆記本電腦等。       主要產(chǎn)品：磁控濺射靶材，分為陶瓷靶材、金屬靶材、合金靶材。應(yīng)用領(lǐng)域：應(yīng)用于平面顯示工業(yè)、薄膜太陽能工業(yè)、半導(dǎo)體鍍膜工業(yè)、建筑/汽車玻璃工業(yè)和裝飾/功能鍍膜工業(yè)。采用氧化鋯和氧化釔（穩(wěn)定劑）粉料為原料，其重量份配比：300目氧化鋯100份，1400目氧化鋯90～110份，穩(wěn)定劑30～50份。所述穩(wěn)定劑為氧化釔或氧化鈰，或者，采用復(fù)合穩(wěn)定劑，即氧化釔添加適量氧化鈰（占氧化釔重量1～10%），或氧化鈰添加適量氧化釔（占氧化鈰重量1～8%）。并將上述原料混合均勻，獲得混合配料。鎳鉻靶材。靶材，特別是高純度濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理-氣相沉積工藝（PVD）、太陽能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。所謂濺射。