主營(yíng):濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉(zhuǎn)靶材,平面靶材
所在地:
廣東 廣州
產(chǎn)品價(jià)格:
電議(大量采購(gòu)價(jià)格電議)
最小起訂:
1
物流運(yùn)費(fèi):
賣家承擔(dān)運(yùn)費(fèi)
發(fā)布時(shí)間:
2024-07-25
有效期至:
2025-01-25
產(chǎn)品詳細(xì)
磁控濺射靶材廣泛應(yīng)用于用于建筑/汽車玻璃工業(yè)、薄膜太陽(yáng)能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)。隨著國(guó)內(nèi)靶材行業(yè)研發(fā)的投入和發(fā)展,國(guó)內(nèi)已有靶材供應(yīng)商、制造商的生產(chǎn)出來(lái)的靶材達(dá)到了***的水平。在廣州,尤特新材料成為大部分國(guó)家大部分國(guó)家較好個(gè)研制較長(zhǎng)、較厚旋轉(zhuǎn)靶材的制造商,隨著研發(fā)的持續(xù)投入,國(guó)內(nèi)靶材行業(yè)的未來(lái)值得期待。磁控濺射是一種物理氣相沉積的。濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng),利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。 AluminumZincOde)等,純度要求一般在99.99%以上,其中,鋁靶、銅靶用于導(dǎo)電層薄膜。2017年公司濺射靶材、蒸鍍材料、其他產(chǎn)品的營(yíng)收占比分別為78.36%、18.4%、3.24%。公司營(yíng)業(yè)收入逐年增長(zhǎng),毛利率和凈利率保持高位,盈利能力穩(wěn)健提升。年,公司營(yíng)業(yè)收入分別為0.83億元、1.24億元、1.75億元、2.36億元,年均復(fù)合增長(zhǎng)率為41.86%。2017年1-9月,毛利率均超過(guò)35%,凈利率20%左右,較高的毛利率凈利率體現(xiàn)了公司產(chǎn)品的技術(shù)含量的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力,同時(shí)表明了公司產(chǎn)品具有較強(qiáng)的盈利能力,有利于公司未來(lái)的可持續(xù)發(fā)展。特別是ITO靶材市場(chǎng)發(fā)展緩慢,致使中國(guó)銦大量出口。 純度大于5N,且致密度大于99%。按使用的原材料材質(zhì)不同,濺射靶材可分為金屬/非金屬單質(zhì)靶材、合金靶材、化合物靶材等。濺射鍍膜工藝可重復(fù)性好、膜厚可控制,可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜,所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結(jié)合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)之一,各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應(yīng)用,因此,對(duì)濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加,濺射靶材亦已成為目前市場(chǎng)應(yīng)用量大的PVD鍍膜材料。從市場(chǎng)前景來(lái)看,薄膜太陽(yáng)能電池在光伏建筑一體化、大規(guī)模低成本發(fā)電站建設(shè)等方面比傳統(tǒng)的晶體硅太陽(yáng)能電池具有更加廣闊的市場(chǎng)空間?,F(xiàn)今制備太陽(yáng)能電池用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅。 硅的原子結(jié)構(gòu)決定了硅原子具有一定的導(dǎo)電性,但由于硅晶體中沒(méi)有明顯的自由電子,因此導(dǎo)電率不及金屬,且隨溫度升高而增加,因而具有半導(dǎo)體性質(zhì)。微電子領(lǐng)域?qū)Π胁臑R射薄膜的品質(zhì)和電阻要求是相當(dāng)苛刻的。硅片制造商對(duì)靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細(xì)晶粒,這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。電阻率是硅靶材產(chǎn)品的重要參數(shù)之一,除特殊用途外,絕大多數(shù)硅靶材電阻率要求越低越好,開(kāi)始應(yīng)用時(shí)電阻率要求在0.1-0.5Ω·cm范圍內(nèi),逐漸降低至小于0.1Ω·cm,目前標(biāo)準(zhǔn)電阻率為0.02-0.04Ω·cm。為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,UVTM的研發(fā)人員開(kāi)發(fā)了一種超低阻硅靶材,在硅材料中摻入處理過(guò)的高硼含量母合金,使硅靶材的電阻率小于0.01Ω·cm。 這也是其一大優(yōu)點(diǎn)。靶中毒的物理解釋,一般情況下,金屬化合物的二次電子發(fā)射系數(shù)比金屬的高,靶中毒后,靶材表面都是金屬化合物,在受到離子轟擊之后,釋放的二次電子數(shù)量增加,提高了空間的導(dǎo)通能力?;蛘哜佷X硅靶沉積的薄膜。3.4水晶鍍膜系列靶材水晶飾品,燈飾等鍍膜量這幾年增長(zhǎng)很快,主要集中在中山古鎮(zhèn)和義烏浦江為主。古鎮(zhèn)是以燈飾水晶鍍膜為主有大小企業(yè)幾十家。浙江義烏以水晶飾品為主。大多采用匯成真空電弧加磁控鍍膜設(shè)備。主要有干邑色,琥珀色,酒紅色,AB彩,玫紅色,金顏色,墨綠色,豬肝色等。水晶鍍膜琥珀色。鉬靶材主要用于平面顯示行業(yè),屬于鉬金屬制品生產(chǎn)鏈頂端產(chǎn)品,技術(shù)含量高、生產(chǎn)難度大。UVTM自主研發(fā)、生產(chǎn)出具有完全知識(shí)產(chǎn)權(quán)的4.5代、5.0代、5.5代靶材。產(chǎn)品規(guī)格一次一次刷新紀(jì)錄。 新型靶材以銅為主體,與ITO一樣,因此容易用蝕刻工藝實(shí)現(xiàn)細(xì)線設(shè)計(jì),因?yàn)椴皇褂勉煹认∮薪饘?,因此與ITO相比,還能降低觸摸屏的成本。用于大尺寸觸摸屏的金屬網(wǎng)的銅合金靶材。該材料可一次性形成導(dǎo)電膜、布線(引線)及黑化膜,同時(shí)具備不錯(cuò)的導(dǎo)電性和低反射率。觸摸屏通常使用氧化銦錫(ITO)作為透明導(dǎo)電膜。ITO是一種透明的導(dǎo)電性材料,但隨著觸摸屏尺寸越來(lái)越大,要求具備更高的導(dǎo)電性。作為可滿足這一要求的技術(shù),將導(dǎo)電線材料從ITO換為網(wǎng)眼狀金屬的“金屬網(wǎng)”被開(kāi)發(fā)出來(lái)。在金屬網(wǎng)用材料方面,目前有基于蒸鍍法的銅網(wǎng)及銀納米線等產(chǎn)品,并被應(yīng)用于附帶大尺寸顯示屏的飲料自動(dòng)售貨機(jī)以及大屏幕個(gè)人電腦等的觸摸屏上。新產(chǎn)品與玻璃、PET(聚酯)等多種基板材料的緊貼性也很不錯(cuò)。
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